Вольфрамовый лист 3х80х2000 мм ВА в Салавате

Высокая чистота и полировка поверхности листа снижают его коэффициент термического излучения в вакууме. Гладкая, без окислов поверхность эффективно отражает тепло, уменьшая теплопотери и улучшая энергоэффективность в высокотемпературных вакуумных установках.

Свариваемость листа ВА толщиной 0.6 мм осложнена высокой хрупкостью вольфрама после перекристаллизации. Требуется сварка в инертной газовой среде (аргон), точное управление тепловыми циклами, а также предварительный нагрев и последующая термообработка для снижения остаточных напряжений.

Преимущества применения вольфрамового листа в качестве мишеней для ионной имплантации заключаются в его высокой плотности, высоком атомном номере и высокой температуре плавления. Эти свойства обеспечивают эффективное торможение ионов, минимизируют распыление и позволяют работать с высокими токами.

Производство вольфрамового листа толщиной 0.3 мм регулируется международными стандартами, такими как ASTM B760. Этот стандарт устанавливает требования к размерам, допускам, химическому составу и механическим свойствам для вольфрамовых плит, листов, полос и фольги.

Вольфрамовый лист, особенно сплавы ВР-20 и ВР-27ВП, способны выдерживать значительные температурные градиенты. Это благодаря относительно высокой теплопроводности и улучшенной термической стабильности, однако резкие перепады температур могут привести к термическому шоку.

Состав листа ВА, особенно его чистота и отсутствие примесей, влияют на устойчивость к нейтронному излучению. Чистый вольфрам обладает высоким сечением захвата нейтронов, а допированные марки ВА могут демонстрировать лучшую сопротивляемость радиационному охрупчиванию.

Вольфрамовый лист ВД идеально подходит для рентгеновских трубок. Это обусловлено его высокой плотностью, высоким атомным номером и температурой плавления, что обеспечивает эффективное тормозное излучение для генерации рентгеновских лучей и высокую термическую стабильность мишени.