Танталовый лист 5х130х100 мм ТВЧ в Салавате

Толщина танталового листа прямо пропорционально влияет на его способность к поглощению рентгеновского излучения. Чем толще лист, тем выше его поглощающая способность. Это свойство используется в рентгеновской технике, например, для защитных экранов.

Даже незначительные примеси в танталовом листе марки ТВЧ могут негативно сказаться на его устойчивости к каустической соде. Тантал чувствителен к щелочам при высоких температурах. Примеси, особенно металлы с более низким потенциалом, могут ускорять коррозию, вызывая локальные разрушения. Для щелочных сред критична максимальная чистота.

Для использования в условиях вакуума при температурах до 1500°C без значительного испарения подходят танталовые листы марки ТВЧ и легированные вольфрамом марки ТВ-10. Тантал имеет очень низкое давление паров при этих температурах, что обеспечивает его стабильность и минимальную потерю массы.

Танталовый лист марки ТаВ (тантал-ниобиевый сплав) имеет преимущества перед танталовым листом марки ТВЧ в производстве нагревательных элементов за счет повышенного удельного электрического сопротивления. Это позволяет достигать требуемой тепловой мощности при меньших размерах элемента или меньшем токе, делая его более эффективным.

Удельная электрическая проводимость танталового листа марки ТаВ будет несколько ниже, чем у чистого тантала марки ТВЧ, из-за легирующих добавок ниобия. Точное значение зависит от конкретного процентного содержания ниобия, но в целом тантал является хорошим проводником.

Воздействие высоких энергий, например, ионная имплантация, изменяет поверхностный слой танталового листа, формируя легированный слой. Это может улучшить его твердость, износостойкость, коррозионную стойкость или адгезию последующих покрытий за счет изменения химического состава и структуры поверхности.

Присутствие кислорода в высокочистой воде при 250°C способствует формированию стабильной и пассивной оксидной пленки на поверхности танталового листа. Это значительно улучшает его коррозионную стойкость. Без кислорода оксидная пленка может быть менее устойчивой, что потенциально увеличивает скорость растворения.